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真空室選項——野馬的高度可配置的解決方案從一個室選擇基于數(shù)量的來源。高達8沉積位置可以配置一系列的沉積來源和電源配置。 
野馬的系統(tǒng)可以配置為單沉積技術(shù)，包括專用或者通過結(jié)合沉積方法混合解決方案就多達8個不同的沉積方法。標準涂層面積24英寸或48英寸的高度、24-38英寸直徑與單一旋轉(zhuǎn)或多個行星自轉(zhuǎn)。 系統(tǒng)平臺——高度可配置的產(chǎn)品組可以使廣泛的摩擦學(xué)過程配置和簡單的升級或改造,為未來的應(yīng)用。基本系統(tǒng)包含了所有的工業(yè)設(shè)計的特性,使得野馬真空系統(tǒng)成功的兼容許多行業(yè)。 - 推動工業(yè)控制平臺與配方，觸摸屏工業(yè)PC接口
- 工業(yè)系統(tǒng)設(shè)計符合人體工程學(xué)的證明維護和確保運行正常
- 高正常運行時間的解決方案，利用一級零部件供應(yīng)商與全球支持
- 單或雙門設(shè)計與集成的工具來最大化的生產(chǎn)能力
規(guī)格
●雙層不銹鋼水夾套真空室設(shè)計。
●快速裝卸屏蔽罩和行星轉(zhuǎn)臺的設(shè)計。
●行星旋轉(zhuǎn)襯底轉(zhuǎn)臺分成三層。
●多個屏蔽輻射元素為襯底加熱與熱電偶反饋提供允許溫度監(jiān)測與控制基板的溫度最大的高達600°C。
●2 x直流和交流線性輝光放電陣列,用于等離子體預(yù)處理、離子輔助沉積或PACVD面涂層。
●靈活的單(1)到6(6)單獨關(guān)閉陰極靶位可供各種濺射、蒸發(fā)& PACVD沉積源包括:
1、專利的高功率密度(高達30 w/平方厘米)、不平衡或平衡磁控管為直流、脈沖直流、交流、射頻和HIPIMS濺射操作。
2、矩形和圓形80 - 200 a引導(dǎo)電弧蒸發(fā)陰極。
3、熱絲、脈沖直流、交流和射頻PACVD。
4、熱、電子束蒸發(fā)。
5、直流、脈沖直流、交流或射頻襯底偏置電壓為定制離子輔助增長遞送。
●標準矩形陰極尺寸的6 x 30英寸和6 x 54英寸(其他請求)。
●PLC / Windows PC控制與綜合顏色觸摸屏。多個用戶選定的配方可以從人機界面,幾乎無限的配方存儲在主機電腦。網(wǎng)絡(luò)/調(diào)制解調(diào)器進行遠程訪問“實時”診斷運行或過程監(jiān)控。
●多個質(zhì)量流量控制器(通常是Ar、N2 CxHy,O2和備用)工作&活性氣體輸送和凈化控制。
●干燥劑排氣作為標準。
●標準濺射&弧電源(額外的制造商和配置要求):
●直流電源- 5-30KW甚至高達180千瓦大功率電源
●脈沖直流電源- 5-30KW
●AC /中頻功率- 5 - 150千瓦
●射頻功率- 5-15KW
●HIPIMS(高功率脈沖磁控濺射)力量——40千瓦(高功率峰值高達8 mw)
●引導(dǎo)弧- 80 a,120或200一個
標準泵的配置和選擇:
●1 x愛德華茲GXS250/2600粗&羅茨泵方案。
●2 x愛德華茲STP-iXA 2206 5軸,磁懸浮,渦輪分子泵。 可選的:
●Leybold SV 630或1200機械水泵WH4400 SV與羅茨泵。
●WH4400 Leybold雙干泵與羅茨泵
●20英寸的瓦里安擴散泵
●MaxCool 4000 polycold
●其它要求 ●生產(chǎn)&自動化選項:
●單室門、手動操作。
●雙室門、手動操作。
●簡單加載/卸載行星旋轉(zhuǎn)唱盤&攜帶手推車。
●單或2位置完全自動轉(zhuǎn)盤可以水平或垂直地提出根據(jù)夾具。
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